中芯国际购买的是ASML第四代产品，也就是深紫外光刻机，技术上与ASML极紫外光刻机有云泥之别。

　　ASML光刻机目前已发展到第五代，最小工艺是正在向5nm甚至3nm迈进。从图中可知由上海微电子研制的国产光刻机目前水平实际上已经达到了ASML第四代水平。预计今年底能够上市销售。也正因为这个原因ASML公司已经于去年降价促销其DUV光刻机，目的是要把国产光刻机封杀于摇篮中。

　　ASML最顶级光刻机采用了极紫外光刻机EUV技术，这是1997年Intel和美国能源部共同成立发起的EUV-LLC联盟，汇集了美国三大国家实验室并联合了摩托罗拉和AMD等企业数百位顶尖科学家共同研制此技术。当时尼康和ASML也申请加入被美国政府拒绝，最后ASML表达了忠心和让步后才获准加入。但是日本尼康被排除了，因为那时美国正在打压日本的半导体产业，如今中国取代日本遭到美国打压。

　　从上图可知，国产光刻机研发过程的艰难历程。事实上极紫外光刻机技术美国早在上世纪末就开始了研发，中国目前的差距大约有二十年，不过按照中国人研发的决心与投入，这个差距可以缩小十年。

　　虽然中芯国际大量购买了ASML光刻机，但是为了能让国产光刻机有活路，国家最新出台了阻断法案。全称是《阻断外国法律和措施不当域外实施办法》。按照此法律要求，未来凡是在中国境内有业务开展的一些实体包括个人因为要遵守其他国家或其他一些法律禁令，那么在中国境内从事选择性、歧视性的商业活动对中国实体或者个人造成损害的都受到这一法律的管辖。简言之，两条路，要么申请中国商务部的豁免，要么就选择退出中国市场。

　　这意味着中国并不打算长久使用ASML光刻机，目前仅仅是一个过渡阶段。其实摆明了就是要求ASML如果你不打算卖我EUV光刻机，那么等到国产DUV光刻机研发成功后，你就必须全面退出中国市场，因为中国虽然暂时研发出EUV光刻机还有难度，但是你的深紫外DUV光刻机我也不打算要了，即使比中国最新的国产光刻机质量好，我也不要，因为中国要扶植自己的光刻机企业去突破EUV技术难关就不能让中国的光刻机市场被ASML霸占。

　　此项法律并不仅仅局限于光刻机。台积电的芯片制造以及高通芯片等都将面临是否退出中国市场的选择，这是中国破釜沉舟的巨大决心体现，我的地盘我做主，决不允许国外企业吃你的饭还砸你的锅这样的事情发生。

　　中国要发展必须解决卡脖子问题，要想不被卡脖子只有横下一条心背水一战，依靠自己攻坚克难，除此别无他路。

　　建国以来几十年风风雨雨，比芯片更大几十倍的困难都熬过来了，中国人是不会被美国的威胁吓倒的，过去不会，现在不会，将来更不会，敢问路在何方，路在脚下！

　　现在有一个矛盾，你研发到14纳米，她就解禁到14纳米，你研发到7纳米他就解禁到7纳米，他一解禁我们就买好的，国内研发的钱就打水漂了。所以，芯片研发不能一拥而上，同时对国产芯片实行市场保护，人家有权禁出我们就有权禁入，这一点我们可以国家安全为由不受wto约束。长期来看，wto已失去作用对此我们要有准备和回应，对类似产品实行进口配额以保护国产品的市场份额，用经济手段提高企业创新的积极性，同时要灵活运用市场换技术的交易原则。总之，美国制定的自由贸易原则正由美国抛弃，我们还在旧秩序里打滚没意义。一句话，时代变了。

　　中国光刻机世界上并不弱，上海微电子世界第四，前三位asml,尼康和佳能。

　　从科研实力上看，激光器，光学和化学都具备，但各个领域产业化不够，规模小和水平低，例如光学没有蔡司。

　　光刻机是大功率和高精度系统结合，高精密得机械。

　　光刻机主要是镜头组，高功率极紫外线激光，高精度工作台，光刻胶。是一只大型胶片时代单反相机，带着高质量纳米精度多个镜片低畸变得镜头。

　　太阳光照射物体光线传统或者反射进入镜头，打在胶片上，后续对胶片进行曝光，进行多张照片曝光后合成提高清晰度。

　　光刻机，光线穿过掩膜，通过镜头，照射在晶圆表面光刻胶，后续也有多次曝光，提高精度。

　　镜头组asml 用蔡司，多个直径1米镜头组，中国高分资源卫星有这类技术。有个比较，就摄影镜头来说，国产产业品质有蔡司70% 左右，这主要是考虑价格成本，太好价格贵。从产业化产品看，长庚光学广角镜头低畸变在世界领先，中一和七工匠镜头水平不低，但没有能与蔡司比。

　　大功率稳定输出激光光源待突破，中国激光器基础雄厚，主要是研究所。

　　双工工作台，光刻机是一线一线曝光以保证精度，精度极高。

　　光刻胶，实现产业化，台积电培养了几个企业，现在能供给韩国用。

　　中国有人才和资源，投入足够力量，能尽快开发出来。各个环节产业化还不足。

　　三到五年，中国将会制造出EUV光刻机。不要问我为什么这么说，因为中国不是你们想象的那个离开洋拐棍就不会走路的国家。中国建国后三十年筚路蓝缕打下工业基础，四十年改革开放工业起飞，七十年教育育人，三十岁的科学人才已经接班上岗，高新技术事业有如起步的赛车，正在猛轰油门，向着跑道冲刺。中国各科研院所和企业，已经生产出了高端光刻机的各个分部件，在统一规划下，进一步组装调试磨合之中而已。上海微电子公司，多年努力已经制成投产28nm光刻机，可以用于14nm工艺流程，迫使美国对中国解禁14nm以上的芯片设备。这就是中国人开辟的中国之路，奋进中的辉煌。14nm以下的芯片设备还会耽搁太久吗？何况14nm以上的芯片设备已经涵盖工农业军工的所需所求芯片，14nm以下的芯片设备生产的芯片主要用于手机一类的袖珍型民用装备，美国的封锁只是恶心到中国普通人的生活，诱逼中国人去购买苹果之类的西方产品，打压中国的民用产品市场份额，其奸商和恶棍的嘴脸在中国人民面前暴露无遗。三到五年，中国的科研人员和企业员工一定会让美国佬从此后悔自己的芯片无人需要。

　　科技跟上楼梯一样，要一步一步往上走。中芯国际通过学习低端光刻机技术，为自己在制造光刻机领域打下基础，学习别人的技术长处，自己再创新争取弯道超车，相信中芯国际会在不远的时间，掌握光刻机领域的顶尖技术。

　　我回答的题目是：

　　光刻机不是哪一个国家就可以完全制造出来的专用设备。而是各国高科技合作的结晶。想一个国家自己制造出来，目前来看是不现实的理想。也就是说愿望是美好的，但现实很骨感。现在干实事必须要有自知之明，必须脚踏实地，任何吹嘘和弯道超车的思维都会摔跟头。科学技术是一步一步实现的，不是异想天开吹出来的。这就是实践是检验真理的唯一标准。科技也是如此。

　　

 

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　　中芯国际花费78亿买来“低端”光刻机，高端光刻机国产化还有多久？

　　日前，中芯国际发布公告称，公司根据批量採购协议，已经花费12亿美元购买了阿斯麦的深紫外线光刻机（即DUV光刻机）。

　　然而，我们知道DUV光刻机和我们所知道的EUV光刻机相差甚远，一个是能够完成我们所知道的更高精度的芯片的制作，一种是相对来说只能表现一般的光刻机。

　　这让我们不禁要问：到底我国光刻机国产化还有多久？何时能够赶上ASML呢？

　　实际上，我国现在所拥有的光刻机在市面上，我们所知道的是上海微电子90 nm光刻机，和我们所知道的ASML相比相距甚远。

　　当然我们也知道目前的光刻机领域我国并没有放弃，而是在不断的深耕，只不过我们所看到的内容可能相对较窄一些。而最近我们也看到一则消息，这次消息让我们感觉到气愤不已，也让我们感受到如果不实现中国光刻机的国产化，那么在未来我们的发展一定会受限。

　　因此，我们只有真正的生根技术，真正的发扬自己的技术优势，才能够打破这方面的束缚。其实我国像中科院等一些研究机构已经在不断的研发光刻机，我们也希望他们能够给我们带来更多的希望。

　　只要给我们时间聪明的中国人会造出光刻机的。过去事实证越是卡我们的我们都造出来了。二弹一星，北斗，核潜艇，飞机军舰发动机都有了。汽车不卡我们反而我们的汽车没有世界名牌。

　　我们打持久战，时间到了，光刻机也会被我们做成白菜价。我们28纳光刻机一露头，荷兰28纳米立马降价试图扼杀我们。28纳米有了，14纳米7纳米不远了。隆冬到了春天还会远吗？！

　　就现在这个中芯国际78亿买回来的所谓“低端”光刻机，中国自己就能生产啦？如果不能生产，怎么有底气说是“低端”的光刻机呢？国外生产的光刻机，尤其是ASML生产的光刻机，有哪一台到了国内算是“低端”的玩意儿呢？

　　理论上可以用于量产的国造光刻机，最高水平是90纳米的光刻机设备。并且注意，只是在理论上解决了量产问题，但这个量产是不涉及良品率的量产！现在，乃至未来几年，全国造90纳米芯片制程的良品率都仍旧是有巨大余量改进的一个研究方向。

　　理论上可以生产出来28纳米芯片的国造光刻机已经有样机存世，但这台设备还没有成熟到可以工程化的水平。理论上，我们可以用自己的设备制造出来28纳米芯片了，但这个生产可不是量产，也不是试生产，仅仅是理论上可以生产！这个生产什么时候可以工程化，什么时候可以量产，什么时候良品率提高到有利润，大概要很多年才能实现吧。

　　但最重要的问题是，国产光刻机大概永远不会挣到钱。因为现在中国正在攀登的光刻机科技树，在国外已经是“略微”过气的技术，乃至全球在这个尺寸上的生产设备早就已经处于供需平衡中。中国除非是用“白菜价”来杀入市场，否则别人为什么要放弃已经口碑极好地长期供货商，来选择你这个没有口碑刚刚入市的小字辈呢？哪怕国内的那些芯片生产商，如果允许选择，都不会考虑国产光刻机。原因很简单，这种成熟尺寸的芯片制程上，良品率、成本控制是最关键的数据。有哪一家芯片商会放弃自己的利润，以自己会破产的危险来支持国产光刻机的成长呢？

　　至于中芯国际现在购买的那个所谓“低端”光刻机，也是目前国产光刻机无法涉及到的最高端光刻机技术。国内直到现在也没有把这种“低端”光刻机的子系统都弄明白，只是在有限几个子系统上得到了诸如“验证”、“证实”这样貌似突破，实际上距离实物突破遥远的成果。反正我看到的几个报告，全是振奋地宣称“我们验证了技术线路的正确”，这个“验证”大概就是比电脑上的PPT进一步的实物“PPT”吧！

　　其实国内光刻机进程水平如何，是有资料帮我们总结的，那就是证券公司的行业报告。那是给投资人看的资料，真金白银要投钱的，真实程度远远高过网上那些不知所云的“鸡血”文章。我阅读了几家证券公司的芯片行业报告，都明确告知，别说高端光刻机了，90纳米光刻机也远远没有成熟，28纳米光刻机也是刚刚从PPT上抠下来，至于更先进的制程，对不起了，现在那个只能叫“预研”！“预备研究”这个词代表什么，大家应该知道是什么意思吧！

　　最后说一句，大家知不知道，中国人现在已经把国际上的二手光刻机设备的价钱炒涨了3倍。日本的那些二手芯片设备交易商都笑得把后槽牙都露出来了，全是中国人，像大妈闯金店，不问价钱全包圆扫货玩法。所以，高端光刻机，什么是高端光刻机呢？